特許庁は、本日、初めて日・アフリカ特許庁政策対話を開催しました。本会合では、特許庁より、日本企業の今後の進出先として有望であり、スタートアップの活動が活発なケニア、南アフリカ、アフリカ知的財産機関(OAPI)の特許庁に「知的財産の基盤整備に関する包括的な協力の強化」を提案し、合意を得ました。 \ 最新情報をチェック / FacebookXBlueskythreadsHatenaCopy 投稿ナビゲーション 前の投稿前 Why is China hiding its oil tankers from US trackers?次の投稿次 東日本大震災「中小企業等グループ施設等復旧整備補助事業」の交付決定を行いました